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조회 수 : 44361
2011.07.23 (20:17:36)

VeOS

VeOS첨단 검출기 기술을 자랑하는 OBLF VeOS 분광분석기는 반도체 검출기의 바탕으로 모든 금속 재료의 다목적이고, 유연한 신속한 분석이 가능합니다. 특히 VeOS 분광분석기의 분석 스펙트럼은 질소 및 저 농도 탄소와 같은 낮은 주파수를 갖는 원소의 정확한 분석이 가능합니다.

 

OBLF VeOS는 실험실용 분광분석기에 필요한 스펙트럼 해상도를 갖는 광전관 (photomultiplier)  기반 시스템에 접근하는 우수한 성능을 가진 반도체 기반 검출기 시스템의  스파크 분광계입니다. 이 새로운 Photo 검출기 기술은 130-800 nm의 전체 파장 범위를 감지하며 우수한 Spark 방출 분광기에 대한 개발로 이어졌습니다. 기존 반도체 시스템의 탐지기보다 100배 더 밝고 민감한 새로운 반도체 검출기를 기반으로 방출 분광기에 맞게 디자인되었습니다. 그 결과, 최상의 품질을 갖는 OBLF 분석 기술과 혁신적인 반도체 검출기 디자인으로 최상의 스펙트럼 감도와 스펙트럼 해상도의 조합을 제공하는 첫 번째 장치입니다.

 

이 외에도, VeOS 모델은 컴팩트한 디자인으로 조작이 간단한 새로운 사용자 친화적인 장비입니다. 이 장비는 생산 환경에서 사용하기에 적합할 뿐만 아니라 다양한 재료의 분석 작업과 시험을 가능하게 합니다. 또한 이 장비는 재료의 분석 기능을 확장하려고 할때도 주요 시스템을 변경하지 않고도 쉽게 가능합니다.

 

설치 장소의 외부 환경 조건이 시스템에 영향을 미치지 않게 하기 위해서 반도체 검출기와 특별히 개발된 Measuring 시스템은 온도가 안정된 진공 광학 구역에 내장되어 있습니다. 모든 OBLF의 분석기와 마찬가지로, VeOS모델은 독특하고 강력한 스파크 전원 장치인 Dated Digital Source(GDS)로 짧은 분석 시간을 제공합니다. OBLF 특허인 자동 펄스 청소 시스템으로 Spark 스탠드는 매우 낮은 유지 보수가 필요하며 저렴한 비용으로 운영하실 수 있습니다. 새로운 Windows ® 기반 분광계 소프트웨어 OBLFWin는 장비의 간단한 작동과 스파크 분광법에 필요한 모든 설정을 제공합니다.

 

장점 :

l  모든 금속 재료의 완전하고 유연한 분석 작업이 가능

l  분석 재료의 원소를 쉽게 확장 가능

l  검출 한계가 뛰어난 최신 특별히 개발된 검출기 기술

l  뛰어난 성능, 정밀성과 안정성

l  열악한 환경에서 사용할 수 있는 견고한 장비의 설계

l  분석 요소의 선택에 관한 제한이 없는 가장 포괄적인 멀티 매트릭스 응용 프로그램 옵션

l  질소(N)와 저 농도 탄소 (ULC)에 대한 정확한 분석

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